Caractérisation physique et dynamique du Silicium poreux pour les applications RF
(2015) 2ème journée SemiConducteurs et Oxyde Poreux — Location: Montpellier, France (25.June.2015)
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Belaroussi, Y., Slimane, A., Belaroussi, M. T., Scheen, G., Rack, M., Trabelsi, M., & Raskin, J.-P. (2015). Caractérisation physique et dynamique du Silicium poreux pour les applications RF. 2ème journée SemiConducteurs et Oxyde Poreux, Montpellier, France. https://hdl.handle.net/2078.5/228074